主要(yao)結(jie)構(gou)：

真空室拋(pao)光不(bu)鏽(xiu)鋼(304)，真空室雙層(ceng)水(shui)冷；樣品(pin)具(ju)有反濺射清(qing)洗(xi)功能，沉膜時可以加負(fu)片(pian)壓（0－200V）；蒸發方(fang)式(shi)：為避免微粒(li)物(wu)質(zhi)落(luo)到(dao)基片上，采用基片在上、磁控濺射靶(ba)在下的結構，即由(you)下向上(shang)濺射。熱蒸發以(yi)及電子束蒸發在真空室底部(bu)。

  真空室

1.1真空室體：

1.1.1真空室總(zong)體要求(qiu)：立(li)式前(qian)開(kai)門，具有水冷(leng)功(gong)能；優(you)質不鏽鋼(gang)304，內表(biao)麵拋光(guang)，外(wai)表麵(mian)噴(pen)丸(wan)處理（如(ru)采用雙(shuang)層不鏽鋼均為拋光處理）。真空室尺寸(cun)：Φ600×600mm（可(ke)適當(dang)調(diao)整）；占(zhan)地麵積：小於(yu)3米(mi)*1.2米(mi)*2米(mi)；具有烘烤功能；抽(chou)氣速率(lv)可調整(zheng)。

1.1.2室體內壁(bi)：表麵光潔(jie)；室體外表麵：盡(jin)可能地做(zuo)到表麵整潔；室體焊(han)縫整潔；冷卻係統布(bu)置整潔，焊縫(feng)整潔。

1.2真空室門

1.2.1真空室門(men)外觀(guan)：設備整體外觀美觀；真空室門冷卻水管(guan)：合理考慮引(yin)入位(wei)置及接(jie)頭(tou)方式，並(bing)配置(zhi)有氣壓式自(zi)動保(bao)護(hu)功能；真空室門引線：對(dui)於照明(ming)及烘烤(kao)引線，合理設計引入位置。

1.2.2真空室門密封：真空室門密(mi)封(feng)麵采用整體密封（密封槽為整體加工成型）

1.2.3真空室門連(lian)接：鉸鏈：在高強(qiang)度和安全係數的基礎(chu)上，考(kao)慮(lv)視(shi)覺效(xiao)果(guo)的美觀；限位機構：在真空室門上方鉸(jiao)鏈(lian)接側(ce)，加裝限(xian)位機構；關門機構及(ji)把(ba)手：操(cao)作(zuo)方便，使(shi)用可靠(kao)，外觀考究(jiu)外形大小及顏(yan)色與整體匹(pi)配協調；保護開關：采(cai)用可靠的保護開關。

1.3觀察窗(chuang)

1.3.1觀察(cha)窗型： 100mm。

1.3.2密封及保護：加裝(zhuang)石英(ying)玻璃；加可調節式黑(hei)色保護鏡(jing)；襯(chen)可換式隔(ge)熱保護窗玻璃(li),安(an)裝拆(chai)卸(xie)方便(bian)；安裝對保護玻(bo)璃的防汙染(ran)機構,密封可靠,轉動靈(ling)活(huo),操作方便,不能影(ying)響(xiang)觀察視線(xian)。

1.3.3數量(liang): 正常布局(ju)一個(ge)觀察窗（Φ100mm），一個備用（Φ50mm）。

1.3.4位置:下觀察用於觀察電子槍的蒸發狀態,在電子槍(qiang)擋板開和關的狀態(tai)下都(dou)必(bi)須(xu)完整清楚方便的觀察到鉗鍋(guo)的狀態,在設計(ji)中(zhong)與電子槍鉗鍋及電子槍檔(dang)板(ban)整體考慮,觀察位置及大小；上觀察: 目(mu)的可以方便的觀察工件轉動(dong)。

1.4 防(fang)汙(wu)板：兩套；不鏽鋼板,初(chu)步方案(an)底(di)部板厚(hou)≥2mm,內壁板厚1mm；固(gu)定(ding)螺釘、螺(luo)帽(mao)、支杆等一律采用不鏽鋼材料；拆裝安裝方便，具備防汙及光學密封性能,有(you)效防止(zhi)鍍膜的二次汙染。

2.真空係統

2.1 真空性能(蒸發室內無(wu)樣品為準(zhun))

2.1.1極限真空:6×10^-5

2.1.2恢(hui)複(fu)真空時間:大氣至(zhi)5×10^-4

2.1.3漏氣率:在極(ji)限真空達(da)到後(hou)關閉所有閥(fa)門, 12小時後，真空室內的真空度≤10 Pa。

2.1.4測試方法:按(an)照(zhao)國(guo)標GB11164真空鍍膜機通(tong)用技術條(tiao)件。

2.2 真空係統(tong)配置:複合分子泵+直聯式旋(xuan)片真空泵(beng)

2.3真空管道(dao)、泵及真空閥門:

2.3.1 真空管道設計盡可能簡潔,加工工藝(yi)及外觀考究。預抽真空管道連接采用金(jin)屬波紋管。結構緊湊(cou),維(wei)修方便。

2.3.2超(chao)高真空閥門:高真空閥門采用氣動；氣缸(gang)限位開關采用緊(jin)貼(tie)固定的磁性接近(jin)開關；采用優質不鏽鋼304材料製造。

2.3.3真空室抽氣口(kou):抽氣口設置在蒸發源(yuan)接近位置上,即(ji)在係統可能的情況(kuang)下盡可能降(jiang)低(di)抽氣口位置；在抽氣口設有調節抽速閥。

2.3.4複合分子泵: 分子泵進水路口帶(dai)水流保護。

2.3.5所(suo)有真空泵有缺(que)相(xiang)保護提(ti)示(shi)及報(bao)警(jing)功能。

2.3.6真空室放(fang)氣閥:位置:真空室頂部；放氣口設置可靠過(guo)濾(lv)裝置；充(chong)氣速率:蒸鍍完成後放氣至開門時間(jian)約(yue)5分鍾。

2.4氣體流量控製係統

數(shu)字(zi)顯示三路控製(zhi)，一路流量控製（0～50SCCM），一路流量控製（0～100SCCM），一路流量控製（0～500SCCM）。

2.5真空係統測量及控製:

數字真空計一套(tao)；數顯(xian)複合，數字通訊(xun)，1路(lu)高真空測量2路低真空測量；高真空測量點(dian):真空室頂(ding)部測量點；抽氣室與高閥之間預(yu)留(liu)測量點。低真空測量點:真空室頂部；在管道上預留低真空測量點。

低真空測量，ZJ-52型(xing)電阻規(gui)，高真空測量，ZJ-27型電離規，室體測量，真空規用金屬(shu)規，密封口用刀口金屬密封結構

2.6真空係統操作:

西門子PLC進(jin)行(xing)可編(bian)程控製器(qi)控製,可通過選(xuan)擇(ze)開關選擇自動和(he)手動兩種(zhong)方式,並具有水流量、氣壓、水溫等故(gu)障判(pan)定功能。真空保護及互(hu)鎖(suo)功能。

3 工件轉動係統及工件盤

3.1、采用步進電機調節轉速、磁流體密封；3 到 30rpm 無級調速。

3.2、不鏽鋼圓(yuan)形工件盤(pan)，直(zhi)徑(jing)大於φ160mm，可一次(ci)裝夾2inch樣(yang)品4件。

3.3、基片與蒸發源之(zhi)間距(ju)離250～350mm可調，由腔(qiang)外手動波紋(wen)管調節(jie)機構控製。

4 樣品加熱單(dan)元(yuan)

4.1 樣品加熱溫度：室溫～550℃，配有勻熱結構；樣品加熱溫度均(jun)勻(yun)性誤(wu)差(cha)優於±5度。

4.2 烘烤及相關轉動冷卻的設計考慮基片溫度在550℃以上,烘烤啟(qi)動後連續(xu)工作時間在5小時以上。

4.3 加熱源采用鎧(kai)裝電熱絲(si)加熱器：加熱功率3kw，配備溫控儀(yi)及電力(li)組件，溫度PID自動控製、調節（可以在人(ren)機界麵裏(li)控製）。限幅(fu)給(gei)定有手動和自動兩種切(qie)換形式。

4.4 熱電偶(ou)探(tan)測點:位置固定方式:以三(san)維方向可靠定位。

5 電子束蒸發源(單槍單電源)

5.1 E型電子槍:

5.1.1技術參(can)數:槍功率8KW ；電子束偏轉角270⁰；陽(yang)極電壓為 6KV、8KV兩(liang)檔,在控製麵板上直接可調,變壓器留有餘(yu)量；具有X、Y方向(xiang)掃(sao)描,掃描(miao)波(bo)形有三角(jiao)波、正弦(xian)波、矩形波可選擇。

5.1.2一套掃描電源、一(yi)套燈絲電源.掃描頻率為(wei)0～200Hz.電子束斑(ban)點為方形均勻下沉(chen),電子束斑點3mm～30mm大小可調。

5.1.3速流0～800mA可調。

5.1.4電子束可二維掃描調節，*大掃描正(zheng)負15mm（X，Y）。

5.2電子槍坩(gan)鍋:坩鍋為四位穴(xue)狀(zhuang),穴容(rong)積(ji)應為配襯套後22ml；具有冷卻(que)功能，在正常蒸鍍過程(cheng)中,不出現(xian)由於冷卻效果原(yuan)因導(dao)致(zhi)小坩鍋變(bian)形融(rong)化等現象(xiang)；轉動方式：穴狀坩鍋定位準確，坩堝(guo)轉動具備手動點動及自動轉位功能，可切換。

5.3擋板裝置:

5.3.1一個獨立的電子槍擋板，能夠(gou)自動控製。

5.3.2擋(dang)板:“關”位置:可以方便清楚(chu)地從(cong)觀察窗觀察材(cai)料融化狀態,同時嚴密遮(zhe)擋,不得(de)有材料漏蒸發帶監(jian)控片或(huo)者工件表麵;“開”位置,不得出(chu)現蒸發材料得直線遮擋。

5.4 電子槍電源及控製:功率匹配；帶有高壓滅(mie)弧自動複位功能；采用束流調節反饋(kui)調壓器控製燈(deng)絲加熱功率(束流穩定度優於±2％)；具有手持(chi)有線遙控器；控製裝置有過流 過熱 SCR保護功能，具有軟(ruan)啟動 軟關斷功能，減少對電網的衝擊幹擾(rao)。

6、膜層厚度測試係統

7.阻蒸發源係統：

7.1、采用專(zhuan)門設計的真空專用蒸發電源，避免蒸發舟冷熱態電阻變化大造(zao)成的燒舟問題和真空放電擾動造成的蒸鍍不穩(wen)定的問(wen)題；真空放電環境(jing)造成短(duan)路時，不會(hui)燒電源。保證(zheng)鍍膜的可控性。

7.2、電極：紫(zi)銅(tong)電極3根(gen)，組成兩組(zu)蒸發電極，其中一根(gen)為公共極，每組蒸發電極采用獨立的結構，位於腔室底部，每組電極上安裝1個蒸發舟(zhou)。

7.3、蒸發電極切換(huan)：采用氣動方式切換。實(shi)現兩種材料在同(tong)一真空條件下先後蒸發鍍膜。

7.4、蒸發源：電阻蒸發電壓10V；功率：≥2kW。

7.5、蒸發源配有電動擋板、避(bi)免(mian)交叉(cha)汙染。